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【】光电器件的的生产一定要要加的超超去离子水，光电器件超超去离子水设备通常用新工艺：

1、预办理整体→反侵入控制系统→正中间水箱的→粗交织床→精分层床→纯水箱的→纯离心水泵→紫外线灭菌灯线消毒杀菌器→抛光剂混床→精密加工吸附器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。

2、预外理→反渗透膜法→里面储水罐→循环泵→EDI保护装置→纯化储水箱→纯自吸泵→太阳光的直射线消毒器→增加光泽混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(最新工艺)。

3、预工作→四级反参透→加药机(PH调节)→上面发动机水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯清水箱→纯增压泵→EDI配置→UV太阳中的紫外线线消毒器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(最新工艺)。

4、预净化处理→反浸入→中间的储水箱→潜水泵→EDI提升装置→纯无塔供水设备水箱→纯增压泵→红外光谱线消毒杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(最新工艺)。

5、预处里系统软件→反覆盖系統→间储水罐→纯水泵电机→粗融合床→精混合式床→分光光度计线除臭器→精密铸造过滤装置器→⛄用水点 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)。半导体(semiconductor)，指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是最常用的元素半导体;化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化镓、磷化镓等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等;氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族有机化合物和Ⅱ-Ⅵ族有机物化合物结构的固溶体：镓铝砷、镓砷磷等。除下列晶态半导材料设备外，另外 非晶态的窗玻璃半导材料设备、有机物半导材料设备等。 净水设施，,，。